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沈阳真空技术研究所
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  • 商品名称: CVD系列真空化学气相沉积炉

  真空化学气相沉积炉是在高温并在真空状态下,通入碳源气体,在高温下产生裂解,沉积到工件上,主要用于C/C的化学气相沉积,使复合材料得到致密化处理。  

  可选项:1、底装料式;

      2、上装料式;

  设备温区大小可根据客户实际需求定制。

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